T01600 - SEMI T16 - 極紫外線マスク自動識別用データマトリクス記号法適用の仕様 Revision:SEMI T16-0706 - Superseded TSVにとって重要な計測に関する問題の理解と議論を行うための一貫した用語を規定することである。

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TSVにとって重要な計測に関する問題の理解と議論を行うための一貫した用語を規定することである。

SEMI D3 — Quality Area of FPD Substrates

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This Guide is complementary to SEMI E78 and SEMI E129 and is intended to improve the protection of the most electrostatic damage-susceptible items

1e12-1e13 C atoms/cm2

T01600 - SEMI T16 - 極紫外線マスク自動識別用データマトリクス記号法適用の仕様 Revision:SEMI T16-0706 - Superseded TSVにとって重要な計測に関する問題の理解と議論を行うための一貫した用語を規定することである。Notice: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version. SEMI global Traceability Committee2006516global Audits and Reviews Subcommittee20066www. semi. org200511 EUV SEMI P37SEMI P386 6 Referenced SEMI Standards SEMI P37 Specification for Extreme Ultraviolet Lithography Mask Substrates SEMI P38

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